该项目总投资达2.4亿元，占地约40亩（规划用地面积约26702平方米），总建筑面积达19253.1平方米。项目聚焦高端半导体关键材料领域，主要建设内容包括高纯陶瓷产品生产厂房、先进制造装置及配套设施。公司引进了高纯碳化硅沉积炉、精密数控加工中心、全自动清洗线等国际先进设备，致力于打造国内领先的半导体级高纯陶瓷材料生产基地。

项目正式投产后，将具备年产6.31万件（套）半导体级高纯陶瓷产品的生产能力，产品涵盖化学气相沉积法制备的石墨基碳化硅涂层及固体碳化硅材料，广泛应用于半导体设备、LED外延炉等关键环节，填补国内高端耗材领域的部分技术空白。